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知夫子申请人查询诺发系统有限公司

诺发系统有限公司

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诺发系统有限公司商标注册量分析

申请公司商标总量申请公司核准注册量平均核准注册率
533362.26%

诺发系统有限公司商标类别数据分析-

07类 机械器具2909类 电子电器2101类 化工原料3
数据分析:目前诺发系统有限公司主要注册07类 机械器具商标 (共29件), 主要经营半导体制造用机器化学气相沉积反应器产品

诺发系统有限公司主营产品数据分析(前十)

1半导体制造用机器2化学气相沉积反应器3集成电路设计和半导体制造用计算机软件4集成电路设计用计算机软件(已录制)5半导体晶片加工设备6半导体生产设备7在半导体晶片制造过程中用于清除半导体晶片上光敏有机化合物的机器及其部件8半导体制造机器9半导体制造用机器及机器部件10实验室用化学蒸汽沉淀反应器

诺发系统有限公司申请人申请商标

申请日期:2010-10-20商品详细:半导体制造用机器
07 HCM当前进度:无效(仅供参考)
申请日期:2010-04-02商品详细:
07 VORTEX当前进度:等待实质审查
申请日期:2009-12-24商品详细:半导体制造工业用机器人,半导体晶片加工设备,半导体制造机器
07 DIRECTSEED当前进度:无效(仅供参考)
申请日期:2009-03-03商品详细:半导体制造用机器
07 G 400当前进度:等待实质审查
申请日期:2008-11-27商品详细:半导体制造用机器
07 HCM当前进度:等待实质审查
申请日期:2008-11-14商品详细:半导体制造用机器及机器部件
07 CORAL当前进度:等待实质审查
申请日期:2008-11-14商品详细:半导体制造用机器及机器部件
07 IRIDIA当前进度:注册
申请日期:2008-10-29商品详细:半导体制造机器
07 SIERRA当前进度:注册
申请日期:2008-10-27商品详细:半导体制造用机器设备
07 SMARTSOAK当前进度:等待实质审查
申请日期:2008-10-24商品详细:制造半导体用机器设备及其部件
09 ALTUS当前进度:等待实质审查
申请日期:2008-10-14商品详细:化学气相沉积反应器(实验室装置),集成电路设计和半导体制造用计算机软件
07 INOVA NEXT当前进度:等待实质审查
申请日期:2008-09-19商品详细:制造半导体用机器设备及其部件
09 INOVA NEXT当前进度:无效(仅供参考)
申请日期:2008-09-19商品详细:集成电路设计和半导体制造用计算机软件
09 INOVA当前进度:等待实质审查
申请日期:2008-09-19商品详细:集成电路设计和半导体制造用计算机软件
09 SABRE当前进度:等待实质审查
申请日期:2008-09-19商品详细:集成电路设计和半导体制造用计算机软件
09 图形当前进度:无效(仅供参考)
申请日期:2008-08-28商品详细:化学气相沉积反应器,集成电路设计和半导体制造用计算机软件
07 图形当前进度:无效(仅供参考)
申请日期:2008-08-28商品详细:半导体制造用机器部件,半导体晶片处理机,半导体制造用机器设备
07 VECTOR EXTREME当前进度:等待实质审查
申请日期:2008-07-14商品详细:半导体制造用机器及机器部件
07 SABRE EXTREME当前进度:等待实质审查
申请日期:2008-07-14商品详细:半导体制造用机器及机器部件
09 VECTOR EXTREME当前进度:无效(仅供参考)
申请日期:2008-07-14商品详细:集成电路设计用计算机软件(已录制),化学气相沉积反应器
07 VECTOR EXPRESS当前进度:等待实质审查
申请日期:2008-07-14商品详细:半导体制造用机器及机器部件
09 SABRE EXTREME当前进度:注册
申请日期:2008-07-14商品详细:集成电路设计用计算机软件(已录制),化学气相沉积反应器
09 VECTOR EXPRESS当前进度:注册
申请日期:2008-07-14商品详细:集成电路设计用计算机软件(已录制),化学气相沉积反应器
09 PSAB当前进度:注册
申请日期:2008-03-24商品详细:半导体制造用软件(已录制),化学气相沉积反应器