400-611-6606
大和特殊株式会社商标注册量分析
申请公司商标总量申请公司核准注册量平均核准注册率
252392.00%
大和特殊株式会社商标类别数据分析-
01类 化工原料（共25件）
数据分析：目前大和特殊株式会社主要注册01类 化工原料商标 (共25件)， 主要经营电镀制剂和印刷用镀铬制剂产品
大和特殊株式会社主营产品数据分析（前十）
1电镀制剂2印刷用镀铬制剂3印刷用电解脱脂制剂4印刷用硫酸铜电镀制剂5印刷用镀铜制剂6印刷用含有硫酸铜镀液的化学品7装饰用镀铜制剂8装饰用含有硫酸铜镀液的化学品9含电镀制剂的化学品10装饰用镀金制剂
大和特殊株式会社申请人申请商标
01类 CR-LIGHT当前进度：无效(仅供参考)
申请日期：2004-12-17商品详细：印刷用镀铜制剂(工业化学品),印刷用电解脱脂制剂,电镀制剂,装饰用镀金制剂(工业化学品),装饰用镀铜制剂(工业化学品),含电镀制剂的工业用化学品,印刷用镀铬制剂(工业化学品)
01类 图形当前进度：无效(仅供参考)
申请日期：2004-02-24商品详细：含电镀制剂的化学品,印刷用电解脱脂制剂,电镀制剂,印刷用镀铬制剂,装饰用镀金制剂,装饰用硫酸铜电镀制剂,印刷用硫酸铜电镀制剂
01类 CHROLIGHT当前进度：无效(仅供参考)
申请日期：2004-02-24商品详细：含电镀制剂的化学品,印刷用电解脱脂制剂,电镀制剂,印刷用镀铬制剂,装饰用镀金制剂,装饰用硫酸铜电镀制剂,印刷用硫酸铜电镀制剂
01类 图形当前进度：无效(仅供参考)
申请日期：2004-01-13商品详细：含电镀制剂的化学品,电镀制剂,印刷用电解脱脂制剂,装饰用镀金制剂,印刷用镀铬制剂,装饰用硫酸铜电镀制剂,印刷用硫酸铜电镀制剂
01类 COSMO CHEMICALS当前进度：无效(仅供参考)
申请日期：2004-01-13商品详细：含电镀制剂的化学品,印刷用电解脱脂制剂,电镀制剂,印刷用镀铬制剂,装饰用镀金制剂,装饰用硫酸铜电镀制剂,印刷用硫酸铜电镀制剂
01类 DAIWA当前进度：无效(仅供参考)
申请日期：2003-10-22商品详细：植物生长调节剂,纸浆,照相材料,试纸,脂肪酸,工业用淀粉,合成树脂塑料,未加工塑料,非办公、非家用胶水和粘合剂,肥料,人造增甜剂(化学制剂)
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